尖端公司將在市場上推出新型半導體測量技術

德州奧斯汀--(美國商業資訊)--針對半導體生產中重要製程控制開發先進測量系統的Xitronix Corporation今天宣佈，該公司已收到KLA-Tencor Corporation指控Xitronix侵權案的最終判決，認定KLA-Tencor的專利權利要求無效。

KLA-Tencor在最初於2008年9月24日向德州奧斯汀聯邦法庭提請的訴訟中聲稱Xitronix侵犯了其專利權，並要求法庭對Xitronix簽發永久性禁令。然而，陪審團發現KLA-Tencor的起訴並無根據，Xitronix並未侵權。

Xitronix的其中一位創辦人、執行長Judd Chism表示：「能夠勝訴我們倍感振奮，現在我們將集中精力為半導體產業提供Xitronix獨一無二的製程控制解決方案。我們從一開始便對勝訴充滿了信心。透過我們的技術，領先的製造商能夠獲得巨大的競爭優勢，這是其他技術無可比擬的。」

本案所涉及的重點技術是Xitronix的非破壞性光子調制反射 (PMR) 解決方案。利用該解決方案能夠快速準確、低成本高效率地進行製程控制測量，從而幫助半導體製造商提高產量。

Xitronix的XP700系統是一種高通量、完全自動化的300mm測量系統，可滿足全球先進製程半導體製造商的生產需求。Xitronix XP700在一個適用於即時製程控制的完全自動化平臺中整合了Xitronix PMR技術公認的摻雜劑活化與應變測量能力。

Xitronix的創辦人之一、技術長以及這項技術的發明人Will Chism博士表示：「我們的技術無疑為半導體生產中一種未獲滿足的新型製程控制要求提供了解決方案。對於那些力求控制半導體奈米結構的材料與電子屬性的製造商而言，Xitronix PMR是一種突破性的技術。」

Will Chism繼續指出：「現在我們能夠充分發掘這一市場潛力，對此我們非常興奮。我們是這項技術的唯一供應商，客戶們大可放心。」

Xitronix之所以要開發這項技術，是因為隨著晶片變得越來越小，逐漸達到物理限制，半導體產業愈發關注工程屬性。Xitronix的這種解決方案能夠以非破壞性方式快速精確地測量材料屬性，因此可保證在製程前期便實現正確生產，進而提高產量。

Xitronix的首席出庭律師、在德州米德蘭私人執業的Steve Hershberger表示：「我們認為KLA-Tencor起訴純粹是出於競爭動機，而並非想保護智慧財產權。我們進入證據開示程序 (discovery) 後，就發現有關專利侵權起訴的有效性存在許多明顯的問題。」

奧斯汀Matheson Keys Garsson & Kordzik PLLC的律師Ross Garsson擔任Xitronix的首席專利律師。

總部位於奧斯汀的Xitronix現在將集中精力全面在市場上推出其XP700系統。該公司計畫在未來六個月內在奧斯汀地區增設七個據點，另外在全球新增12個據點，以此擴大業務。

Judd Chism繼續說：「2007年我們最初開始向主要製造商推出PMR技術時，我們抱有極大的熱情和興趣。侵權案讓我們的工作暫時中斷，但如今的需求更為強勁。我們近期的工作重點將是那些理解我們技術所具有的競爭優勢的重要初期採用者。」

自創立以來Xitronix共籌得240萬美元的資金，其中包括來自德州新興科技基金 (Texas Emerging Technology Fund) 的50萬美元資助。

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