麻塞諸塞州比勒利卡--(美國商業資訊)--微電子產業特種化學品和先進材料解決方案領域的領導者Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG)今天發布了下一代EUV 1010光罩盒，用於以極紫外線(EUV)微影技術進行大量IC製造。Entegris的EUV 1010是透過與全球最大晶片生產設備製造商之一的ASML密切合作而開發的，已率先成為全世界第一個獲得ASML的認證，可用於NXE:3400B及未來更先進機台上的光罩盒產品。

隨著半導體產業開始大量使用EUV微影技術進行先進技術節點的大量製造(HVM)，保持EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要高。Entegris的EUV 1010光罩盒已經通過ASML全面認證，可用於他們的最新一代EUV微影機，並展現了出色的EUV光罩保護能力，這包括了解決最關鍵的粒子汙染挑戰。Entegris的EUV 1010也因此讓客戶能夠順利地使用這最先進的微影製程，來製造出他們產品所需的越來越小的線寬。

為了在NXE:3400B微影機中實現這些性能水準，Entegris開發出使用於接觸光罩和控制環境上的新型技術。Entegris晶圓和光罩處理副總裁Paul Magoon表示：「Entegris EUV 1010代表了我們的產品在改進缺陷率方面的重大突破，使得為先進技術節點實施HVM的客戶可以專注於提高效率和產量。與ASML的共同開發和測試也確保 EUV 1010可符合最先進的EUV微影機的要求。」

關於ENTEGRIS

Entegris是微電子和其他高科技產業特種化學品和先進材料解決方案領域的領導者。Entegris通過了ISO 9001認證，並在美國、中國大陸、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、韓國和臺灣設有製造工廠、客戶服務中心和/或研究據點。更多資訊請造訪www.entegris.com。

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