栃木县小山市--(美国商业资讯)--2020年11月4日，半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，新型KrF曝光机用光源“G60K”已于10月29日出厂。

新型KrF光源“G60K”时隔约15年，通过全新改款及引进新型电源单元，实现了60W的输出功率，相当于传统功率的1.5倍。从而最大可实现提高150%的扫描仪生产效率。另外，“G60K”的机身采用了兼具可扩展性的新平台，并支持为支持未来KrF扫描仪的生产效率扩展的光源性能改进。

目前，传统的KrF用光源存在以下难题，即以高输出实现高处理速度，而模块更换次数增多而导致停机时间增加，最终造成设备Availability下降。“G60K”凭借其新技术，在不增加停机时间的情况下，成功实现了高输出功率和高Availability。并对于高能量光刻层也实现了最大处理速度。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“Gigaphoton的KrF光源是一款融合我们技术和经验的产品，长期以来一直受到客户的高度评价。我坚信，此次时隔15年全新改款的G60K将在制造现场高效运行，进一步提高客户的生产效率。Gigaphoton将继续提供实现生产力最大化的产品和服务。”

GIGAPHOTON公司简介

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家激光器的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问：https://www.gigaphoton.com/cs/。

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