日本小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：栃木县小山市，董事总经理兼首席执行官：Katsumi Uranaka）将参加于太平洋标准时间2023年2月26日（星期日）至3月2日（星期四）在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会。
Gigaphoton将介绍助力提高产能的前沿技术，以及基于DUV光源技术可持续性解决方案。此外，Gigaphoton还将介绍EUV光源的研发进展。
* 如果您希望在您的材料中引用这些论文，请联系我们。
| 口头演讲： |
| 1) 通过领先的浸入式光源同时改善边缘放置误差(EPE)和可用性 [论文编号：12494-44] |
| 2) 面向半导体制造的等离子体动力学和LPP-EUV光源的前景 [论文编号： 12494-45] |
| 论文： |
| 3) LPP-EUV光源关键部件的开发进展 [论文编号：12494-51] |
| 4) 面向工程维护决策的基于机器学习的准分子激光性能模拟器的开发 [论文编号： 12496-101] |
| 5) 利用面向ArF浸入式光刻的最新光源GT66A，实现一流可用性，为可持续发展做出贡献 [论文编号： 12494-60] |
关于GIGAPHOTON
GIGAPHOTON公司成立于2000年，作为一家半导体光刻光源的供应商，自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心，从产品研发到生产、销售及维护，为用户提供业界顶级水准的支持。如需了解更多信息，请访问https://gigaphoton.com/
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