東京--(美國商業資訊)--東芝公司(Toshiba)(TOKYO: 6502)今天宣布，該公司與SK海力士(SK hynix)就奈米壓印技術(NIL)簽訂了最終協議。兩家公司的工程師將於今年4月在東芝位於日本橫濱的橫濱廠(Yokohama Complex)啟動該製程的基本技術開發，計畫於2017年投入實際使用。今天的公告是根據該公司去年12月簽訂的合作備忘錄(MOU)發布的。

東芝已與多家設備和材料公司在NIL領域展開合作，將他們的技術與東芝的半導體製程相整合。新宣布的與SK海力士一起合作的聯合開發計畫將加快投入實際使用的進程，並將減輕東芝在NIL開發領域的投入負擔。

NIL是促進向未來幾代存放裝置遷移的候選技術之一。微影技術是當前的主流製程技術，採用雷射和感光光罩在半導體晶片上的感光塗層上蝕刻回路。NIL透過將範本花紋蓋印在晶片上直接轉移回路設計。這種做法具有實現精細設計的潛力。

東芝將繼續推動下一代微影技術的發展，如NIL和超紫外線微影技術，作為加強其儲存業務以及向未來幾代產品遷移的途徑。

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關於東芝

東芝公司是一家《財星》雜誌全球500大企業，致力於將其在先進電子和電氣產品及系統方面的一流能力運用於五個策略業務領域：能源與基礎建設、社區解決方案、醫療照護系統與服務、電子設備與元件，以及生活方式產品與服務。在東芝集團的基本承諾「為了人類和地球的明天」的指引下，東芝以「透過創造力和創新實現成長」為目標來推動全球業務，並致力於讓全球各地的人們生活在一個安全、有保障和舒適的社會中。

東芝於1875年在東京成立，如今已成為一家有著590多家附屬公司的環球企業，全球擁有超過200,000名員工，年銷售額逾6.5兆日圓（630億美元）。

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