东京--(美国商业资讯)--东芝公司(Toshiba)(TOKYO: 6502)今天宣布，该公司与SK海力士(SK hynix)就纳米压印光刻技术(NIL)签订了最终协议。两家公司的工程师将于今年4月在东芝位于日本横滨的横滨工厂(Yokohama Complex)启动该工艺的基本技术开发，计划于2017年投入实际使用。今天的公告是基于该公司去年12月签订的谅解备忘录(MOU)发布的。

东芝已与多家设备和材料公司在NIL领域开展合作，将他们的技术与东芝的半导体制造工艺相集成。新宣布的与SK海力士一起合作的联合开发计划将加快投入实际使用的进程，并将减轻东芝在NIL开发领域的投入负担。

NIL是促进向未来几代存储设备迁移的候选技术之一。光刻技术是当前的主流工艺技术，采用激光和光敏掩模在半导体晶片上的光敏涂层上蚀刻回路。NIL通过将模板花纹盖印在晶片上直接转移回路设计。这种做法具有实现精细设计的潜力。

东芝将继续推动下一代光刻技术的发展，如NIL和超紫外线光刻技术，作为加强其存储业务以及向未来几代产品迁移的途径。

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关于东芝

东芝公司是一家《财富》全球500强公司，致力于将其在先进电子和电气产品及系统方面的一流能力运用于五个战略业务领域：能源与基础设施、社区解决方案、医疗保健系统与服务、电子设备与组件，以及生活方式产品与服务。在东芝集团的基本承诺“为了人类和地球的明天”的指引下，东芝以“通过创造力和创新实现增长”为目标来推动全球业务，并致力于让全球各地的人们生活在一个安全、有保障和舒适的社会中。

东芝于1875年在东京成立，如今已成为一家有着590多家附属公司的环球企业，全球拥有超过200,000名员工，年销售额逾6.5万亿日元（630亿美元）。

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