尖端公司将新型半导体测量技术推向市场   

德克萨斯州奥斯汀--(美国商业资讯)--针对半导体生产中重要工艺步骤控制开发先进测量系统的Xitronix Corporation今天宣布，该公司已收到KLA-Tencor Corporation诉Xitronix侵权案的最终判决，认定KLA-Tencor的专利权利要求无效。    

KLA-Tencor在最初于2008年9月24日向德克萨斯州奥斯汀联邦法庭提请的诉讼中称Xitronix侵犯了其专利权，并要求法庭对Xitronix签发永久性禁令。然而，陪审团发现KLA-Tencor的起诉并无根据，Xitronix并未侵权。  

Xitronix的其中一位创始人、首席执行官Judd Chism表示："能够胜诉我们倍感振奋，现在我们将集中精力为半导体行业提供Xitronix独一无二的工艺控制解决方案。我们从一开始便对胜诉充满了信心。通过我们的技术，领先的制造商能够获得巨大的竞争优势，这是其他技术无可比拟的。" 

本案所涉及的重点技术是Xitronix的非破坏性光调制反射(PMR)解决方案。利用该解决方案能够快速准确、低本高效地进行工艺控制测量，从而帮助半导体制造商提高产量。

Xitronix的XP700系统是一种高通量、完全自动化的300mm测量系统，旨在满足全球先进工艺半导体制造商的生产需求。Xitronix XP700在一个适用于实时工艺控制的完全自动化平台中整合了Xitronix PMR技术公认的掺杂剂活化与应变测量能力。  

Xitronix的创始人之一、首席技术官以及这项技术的发明人Will Chism博士表示："我们的技术无疑为半导体生产中一种未被满足的新型工艺控制要求提供了解决方案。对于那些力求控制半导体纳米结构的材料与电子属性的制造商而言，Xitronix PMR是一种突破性的技术。"

Will Chism继续道："现在我们能够充分发掘这一市场潜力，对此我们非常兴奋。我们是这项技术的唯一供应商，客户们大可放心。"  

Xitronix之所以要开发这项技术，是因为随着芯片变得越来越小，逐渐达到物理限制，半导体行业愈发关注工程属性。Xitronix的这种解决方案能够以非破坏性方式快速精确地测量材料属性，因此可保证在制造工艺前期便实现正确生产，进而提高产量。

Xitronix的首席出庭律师、在德克萨斯州米德兰私人执业的Steve Hershberger表示："我们认为KLA-Tencor起诉纯粹是出于竞争动机，而并非想保护知识产权。我们进入证据开示程序(discovery)后，就发现有关专利侵权起诉的有效性存在许多明显的问题。"  

奥斯汀Matheson Keys Garsson & Kordzik PLLC的律师Ross Garsson担任Xitronix的首席专利律师。 

总部位于奥斯汀的Xitronix现在将集中精力全面将其XP700系统推向市场。该公司计划在未来六个月内在奥斯汀地区新增七个分支机构，另外在全球新增12个分支机构，以此扩大业务。

Judd Chism继续说："2007年我们最初开始向主要制造商推出PMR技术时，我们抱有极大的热情和兴趣。侵权案让我们的工作暂时中断，但如今的需求更为强劲。我们近期的工作重点将是那些理解我们技术所具有的竞争优势的重要先期采用者。" 

自创立以来Xitronix共筹得240万美元的资金，其中包括来自德州新兴科技基金(Texas Emerging Technology Fund)的50万美元资助。   

免责声明：本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用，烦请参照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。 

联系方式：

anthonyBarnum Public Relations
Kristin Morgan，512-626-8595
Kristin@anthonybarnum.com